特許
J-GLOBAL ID:201003076029175333
局所的加熱装置及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
加藤 朝道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-206261
公開番号(公開出願番号):特開2010-044875
出願日: 2008年08月08日
公開日(公表日): 2010年02月25日
要約:
【課題】被加熱材の所要加熱温度が異なる任意形状の加熱部位ごとに、領域設定及び所要加熱温度までの加熱を迅速かつ精度良く行う加熱装置及び加熱方法を提供すること。【解決手段】電磁波の照射により被加熱材を加熱する加熱装置及び加熱方法であって、該照射線を遮蔽、吸収及び/又は反射するとともに、所定パターンプロフィルを有するプレート材を少なくとも部分的に、該被加熱材に近接して配置可能にした加熱装置及び加熱方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
電磁波の照射により被加熱材を加熱する加熱装置であって、該照射線を遮蔽、吸収及び/又は反射するとともに、所定パターンプロフィルを有するプレート材を、少なくとも部分的に、該被加熱材に近接して配置可能にしたことを特徴とする、加熱装置。
IPC (4件):
H05B 3/00
, C21D 1/34
, B21D 22/20
, B21D 24/00
FI (4件):
H05B3/00 345
, C21D1/34 J
, B21D22/20 H
, B21D24/00 M
Fターム (6件):
3K058AA02
, 3K058AA87
, 3K058AA88
, 3K058BA19
, 3K058CE23
, 3K058EA01
引用特許: