特許

J-GLOBAL ID：201003076912489399

スフェロイド作製方法

発明者： 中面 哲也 ,  小澤 ふじ子 ,  坂本 るり子 ,  田中 覚
出願人/特許権者： SCIVAX株式会社
代理人 (1件)： 奥田 律次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-142819
公開番号（公開出願番号）：特開2010-022366
出願日： 2009年06月15日
公開日（公表日）： 2010年02月04日
要約：

【課題】 二次元培養において増殖速度の異なる2種以上の細胞が存在する場合に、増殖速度の遅い細胞が駆逐されることなく、2種以上の細胞が共存して増殖することができる、スフェロイドの作製方法を提供すること。【解決手段】 細胞接着面として機能する所定の凹凸構造を有する細胞培養基材上で2種以上の細胞を培養することにより、二次元培養用基材上では増殖速度が異なる2種以上の細胞が共存するスフェロイドを形成することが可能となる。この際、凹凸構造面は、所定の平面形状からなるセルを規則的に複数配列した凹凸構造である方が好ましい。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

細胞接着面として機能する所定の凹凸構造を有する細胞培養基材上で2種以上の細胞を培養することを特徴とするスフェロイド作製方法。

IPC (1件)：

C12N 5/07

FI (1件)：

C12N5/00 E

Fターム (9件)：

4B029AA08 ,  4B029BB11 ,  4B029CC08 ,  4B029GA01 ,  4B029GA03 ,  4B065AA91X ,  4B065AA93X ,  4B065BC41 ,  4B065CA44

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 新規スフェロイド及びスフェロイドの製造方法、薬剤スクリーニング、毒性評価、病体モデル動物の製造へのスフェロイドの使用、スフェロイド細胞培養キット、抗体のスフェロイド形成のための使用、レクチンのスフェロイド形成のための使用、細胞接着分子のスフェロイド形成のための使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-197117   出願人：SCIVAX株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Int.J.Exp.Pathol.,Vol.79(1998)p.1-23