特許
J-GLOBAL ID：201003077224148940
基板研磨装置および基板研磨方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邉 勇
, 小杉 良二
, 廣澤 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-233466
公開番号（公開出願番号）：特開2010-064196
出願日： 2008年09月11日
公開日（公表日）： 2010年03月25日
要約：
【課題】大型ガラス基板等の矩形の大型基板を高い平坦度で均一に研磨することができ、装置全体がコンパクト(小型)で、かつメンテナンス性が良好な基板研磨装置を提供する。【解決手段】矩形の基板Gを被研磨面が上向きの状態で保持して回転する基板回転ステージ31を有した基板保持機構部3と、基板Gの被研磨面より小さい研磨面を有する研磨工具10を保持して回転する研磨ヘッド41を有し、研磨工具10を基板Gの被研磨面に押圧する研磨ヘッド機構部4と、研磨ヘッド4を支持して研磨ヘッド41を水平方向に往復運動させる移動機構部5とを備え、基板Gを回転させるとともに研磨工具10を回転させ、研磨工具10を基板Gに押圧しながら、研磨工具10を基板Gの中心部と基板Gの外周端との間で往復運動させることにより基板Gを研磨する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
矩形の基板を被研磨面が上向きの状態で保持して回転する基板回転ステージを有した基板保持機構部と、
基板の被研磨面より小さい研磨面を有する研磨工具を保持して回転する研磨ヘッドを有し、前記研磨工具を基板の被研磨面に押圧する研磨ヘッド機構部と、
前記研磨ヘッドを支持して該研磨ヘッドを水平方向に往復運動させる移動機構部とを備え、
基板を回転させるとともに前記研磨工具を回転させ、前記研磨工具を基板に押圧しながら基板の中心近傍と基板の外周端近傍との間で往復運動させることにより基板を研磨することを特徴とする基板研磨装置。
IPC (2件)：
FI (5件)：
B24B37/04 G
, B24B37/00 A
, B24B37/00 K
, B24B37/00 Z
, B24B37/00 B
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AA11
, 3C058AA12
, 3C058AA13
, 3C058AA19
, 3C058AB01
, 3C058CA06
, 3C058CB01
, 3C058CB04
, 3C058DA12
