特許
J-GLOBAL ID:201003077720740949
ニ分子層
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
名古屋国際特許業務法人
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-521469
公開番号(公開出願番号):特表2010-536551
出願日: 2008年08月19日
公開日(公表日): 2010年12月02日
要約:
両親媒性分子のニ分子層を製造する方法であって、水和支持体を供給するステップと、親水体とを供給するステップと、該水和支持体と該親水体とを接触させて両親媒性分子のニ分子層を形成するステップとを含む方法。本発明の方法によって製造されたニ分子層、及びそのニ分子層の使用法。
請求項(抜粋):
両親媒性分子のニ分子層を製造する方法であって、
(i)疎水性媒体において水和支持体を供給するステップであって、前記疎水性媒体が両親媒性分子を含むと共に、両親媒性分子の第1単分子層が前記水和支持体の表面上に存在するステップと、
(ii)疎水性媒体において親水体を供給するステップであって、前記疎水性媒体が両親媒性分子を含むと共に、両親媒性分子の第2単分子層が前記親水体の表面上に存在するステップと、
(iii)第1単分子層と第2単分子層とを接触させて両親媒性分子のニ分子層を形成するステップと、
を含む方法。
IPC (4件):
B01J 19/00
, C12M 1/34
, C12Q 1/06
, G01N 33/53
FI (4件):
B01J19/00 K
, C12M1/34 Z
, C12Q1/06
, G01N33/53 D
Fターム (39件):
4B029AA07
, 4B029AA08
, 4B029BB20
, 4B029CC01
, 4B029FA12
, 4B029GA08
, 4B063QA01
, 4B063QA18
, 4B063QQ20
, 4B063QR45
, 4B063QR48
, 4B063QR90
, 4B063QX02
, 4B063QX07
, 4C076AA19
, 4C076DD41
, 4C076DD63
, 4C076DD70
, 4C076EE13
, 4C076EE23
, 4C076EE31
, 4C076EE41
, 4C076FF36
, 4C076FF63
, 4C076GG27
, 4G075AA25
, 4G075BB02
, 4G075BB08
, 4G075BD16
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB50
, 4G075FA14
, 4H045AA10
, 4H045AA20
, 4H045AA30
, 4H045AA40
, 4H045DA50
, 4H045EA50
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献:
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