特許
J-GLOBAL ID：201003077856397067
パラメータ制御処理装置及び画像処理装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
安形 雄三
, 五十嵐 貞喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-064921
公開番号（公開出願番号）：特開2010-218271
出願日： 2009年03月17日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：
【課題】再構成型超解像処理方法に基づく繰り返し再構成処理により、位置ずれを有する複数枚の低解像度画像から高画質の高解像度画像を効率良く生成できる画像処理装置を提供する。【解決手段】複数の低解像度画像を高解像度画像空間上に位置合わせするための高解像度画像空間上における位置ずれ情報を算出する位置合わせ処理部と、その位置ずれ情報に基づき、複数の低解像度画像を高解像度画像空間上に位置合わせすることにより中間画像を生成する中間画像生成部と、中間画像に基づいて全ての画素が定義画素である初期画像を生成する初期画像生成部と、中間画像の画素密度を測定する画素密度測定部と、測定された中間画像の画素密度に応じて、繰り返し再構成処理に係るパラメータを適応的に制御するパラメータ制御部と、初期画像に対して、繰り返し再構成処理をパラメータに基づいて行うことにより、高解像度画像を生成する繰り返し再構成処理部とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
位置ずれを有する複数の低解像度画像に基づいて所定の画像処理を行う画像処理装置に使用されるパラメータ制御処理装置であって、
前記複数の低解像度画像を高解像度画像空間上に位置合わせするための高解像度画像空間上における位置ずれ情報を算出する、位置合わせ処理部と、
算出された高解像度画像空間上における位置ずれ情報に基づき、前記複数の低解像度画像を前記高解像度画像空間上に位置合わせすることにより中間画像を生成する、中間画像生成部と、
生成された中間画像の画素密度を測定する、画素密度測定部と、
測定された中間画像の画素密度に応じて、前記所定の画像処理に係るパラメータを適応的に制御する、パラメータ制御部とを備えることを特徴とするパラメータ制御処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (11件)：
5B057AA20
, 5B057CA01
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB01
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC01
, 5B057CD06
