特許
J-GLOBAL ID:201003079834827826
反応性メソゲンを配向するための粒子ビーム法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
伊藤 克博
, 小野 暁子
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-525943
公開番号(公開出願番号):特表2010-501899
出願日: 2007年08月10日
公開日(公表日): 2010年01月21日
要約:
【課題】反応性メソゲンを配向するための粒子ビーム法を提供する。【解決手段】本発明は、粒子ビーム処理を受ける基体上に反応性メソゲン(RM)を配向する方法、前記方法により特に薄層形状で配向されるRM、そのような配向されたRMおよびRM層より得られる配向されたポリマーおよびポリマーフィルム、および、光学的、電子的および電気光学的用途における該RM、層、ポリマーおよびフィルムの使用に関する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
-基体の少なくとも一部を、前記基体上に配向方向を生成する粒子ビームに曝露する工程と、および
-前記基体上に1種類以上の反応性メソゲン(RM)を含む層を塗工する工程と
を含む反応性メソゲン(RM)を配向する方法。
IPC (3件):
G02F 1/133
, H01L 51/05
, H01L 51/40
FI (4件):
G02F1/1337 520
, H01L29/28 100A
, H01L29/28 310J
, G02F1/13363
Fターム (23件):
2H090HB07Y
, 2H090HC08
, 2H090HC13
, 2H090HD14
, 2H090MA01
, 2H090MA02
, 2H090MA16
, 2H191FA02Y
, 2H191FA30X
, 2H191FA30Z
, 2H191FB03
, 2H191FB04
, 2H191FB22
, 2H191FC13
, 2H191FC33
, 2H191FD35
, 2H191GA08
, 2H191HA06
, 2H191HA09
, 2H191HA11
, 2H191HA13
, 2H191HA15
, 2H191LA13
引用特許:
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