特許
J-GLOBAL ID:201003079834827826

反応性メソゲンを配向するための粒子ビーム法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 伊藤 克博 ,  小野 暁子
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-525943
公開番号(公開出願番号):特表2010-501899
出願日: 2007年08月10日
公開日(公表日): 2010年01月21日
要約:
【課題】反応性メソゲンを配向するための粒子ビーム法を提供する。【解決手段】本発明は、粒子ビーム処理を受ける基体上に反応性メソゲン(RM)を配向する方法、前記方法により特に薄層形状で配向されるRM、そのような配向されたRMおよびRM層より得られる配向されたポリマーおよびポリマーフィルム、および、光学的、電子的および電気光学的用途における該RM、層、ポリマーおよびフィルムの使用に関する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
-基体の少なくとも一部を、前記基体上に配向方向を生成する粒子ビームに曝露する工程と、および -前記基体上に1種類以上の反応性メソゲン(RM)を含む層を塗工する工程と を含む反応性メソゲン(RM)を配向する方法。
IPC (3件):
G02F 1/133 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/40
FI (4件):
G02F1/1337 520 ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 310J ,  G02F1/13363
Fターム (23件):
2H090HB07Y ,  2H090HC08 ,  2H090HC13 ,  2H090HD14 ,  2H090MA01 ,  2H090MA02 ,  2H090MA16 ,  2H191FA02Y ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FB03 ,  2H191FB04 ,  2H191FB22 ,  2H191FC13 ,  2H191FC33 ,  2H191FD35 ,  2H191GA08 ,  2H191HA06 ,  2H191HA09 ,  2H191HA11 ,  2H191HA13 ,  2H191HA15 ,  2H191LA13
引用特許:
審査官引用 (7件)
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