特許
J-GLOBAL ID：201003079871775488

被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の作製方法及びそれにより得られた金属パターン材料、表面金属膜材料の作製方法及びそれにより得られた表面金属膜材料

発明者：
加納 丈嘉

加納 丈嘉 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-249209
公開番号（公開出願番号）：特開2010-077322
出願日： 2008年09月26日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：
【課題】基板との密着性に優れた被めっき層を形成し得る被めっき層形成用組成物等の提供。【解決手段】ラジカル重合性基、10≦pKa≦16の炭素原子に直接結合した活性水素を有する官能基、及びイオン性吸着基を有するポリマーを含有する被めっき層形成用組成物等を提供する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ラジカル重合性基、10≦pKa≦16の炭素原子に直接結合した活性水素を有する官能基、及びイオン性吸着基を有するポリマーを含有する被めっき層形成用組成物。
IPC (4件)：
C08F 220/34 ,  C23C 18/20 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/38
FI (5件)：
C08F220/34 ,  C23C18/20 Z ,  H05K3/18 A ,  H05K3/18 E ,  H05K3/38 A
Fターム (73件)：
4J100AJ02P ,  4J100AJ02R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09Q ,  4J100BA03H ,  4J100BA12P ,  4J100BA12Q ,  4J100BA15H ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA16Q ,  4J100BA34H ,  4J100BA35R ,  4J100BA40P ,  4J100BA40Q ,  4J100BA46Q ,  4J100BC04R ,  4J100CA05 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100HA62 ,  4J100HC01 ,  4J100HC51 ,  4J100HE41 ,  4J100JA43 ,  4K022AA02 ,  4K022AA12 ,  4K022AA13 ,  4K022AA42 ,  4K022BA01 ,  4K022BA02 ,  4K022BA06 ,  4K022BA08 ,  4K022BA09 ,  4K022BA14 ,  4K022BA17 ,  4K022BA18 ,  4K022BA21 ,  4K022CA02 ,  4K022CA09 ,  4K022CA16 ,  4K022CA19 ,  4K022CA20 ,  4K022CA21 ,  4K022DA01 ,  4K022DB02 ,  4K022DB03 ,  4K022DB04 ,  4K022DB05 ,  4K022DB06 ,  4K022DB07 ,  4K022EA04 ,  5E343AA12 ,  5E343AA17 ,  5E343AA18 ,  5E343AA38 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB34 ,  5E343BB44 ,  5E343BB48 ,  5E343CC01 ,  5E343CC22 ,  5E343CC72 ,  5E343CC73 ,  5E343DD33 ,  5E343EE02 ,  5E343EE13 ,  5E343EE34 ,  5E343ER04 ,  5E343GG02
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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