金属と配位結合する被膜形成材料

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , 杉本博司 , 高橋佳大 , 星公弘 , 二宮浩康 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-534730
公開番号（公開出願番号）：特表2010-508396
出願日： 2007年08月13日
公開日（公表日）： 2010年03月18日
要約：

被膜形成材料は、非イオン性金属配位構造を含み、非イオン性金属配位構造は、金属、例えば金属触媒や金属基板などに配位結合することができる。実施例の被膜形成材料は、多官能性エポキシドと非イオン性金属配位構造を有する求核性配位子との生成物、又は多官能性アルコールと非イオン性金属配位構造を有する求電子性配位子との生成物であり得る。

請求項（抜粋）：

非イオン性金属配位構造を有する少なくとも1つのペンダント基と、架橋剤に対して反応性の少なくとも1つの基とを有する樹脂を含む被膜形成材料。

IPC (9件)：

C09D 201/00 , C09D 163/00 , C09D 133/00 , C09D 175/04 , C09D 169/00 , C09D 183/04 , C09D 161/20 , C09D 167/00 , C09D 7/12

FI (9件)：

C09D201/00 , C09D163/00 , C09D133/00 , C09D175/04 , C09D169/00 , C09D183/04 , C09D161/20 , C09D167/00 , C09D7/12

Fターム (23件)：

4J038CG011 , 4J038CG041 , 4J038CG131 , 4J038DB061 , 4J038DD051 , 4J038DG261 , 4J038DG301 , 4J038GA03 , 4J038GA06 , 4J038GA07 , 4J038GA09 , 4J038HA186 , 4J038HA216 , 4J038JB03 , 4J038JB09 , 4J038JC38 , 4J038JC39 , 4J038JC40 , 4J038KA03 , 4J038KA08 , 4J038MA08 , 4J038MA10 , 4J038PA04

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開平2-265974
特開昭57-119920
特開平4-081474

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審査官引用 (7件)

特開平2-265974
特開昭57-119920
特開平4-081474

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