特許

J-GLOBAL ID：201003081847323104

スキャナ光学システム、レーザ加工装置、及び、スキャナ光学装置

発明者： 村上 恒雄 ,  小嶋 功 ,  犬伏 龍夫 ,  上野 高邦
出願人/特許権者： ナブテスコ株式会社 ,  シーメット株式会社
代理人 (2件)： 櫛渕 昌之 ,  櫛渕 一江
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2007071199
公開番号（公開出願番号）：WO2008-053915
出願日： 2007年10月31日
公開日（公表日）： 2008年05月08日
要約：

高速に、かつ、走査速度を可変させながら光で対象物を走査しつつ、安定した光走査を可能にする。 レーザ発振器2から出力されたレーザ光を、被加工物98の加工面に照射してレーザ加工するレーザ加工装置1であって、前記レーザ光の強度を調整するAOM5と、前記レーザ光を偏向し、ゼロレベルから所定の走査速度で前記被加工物の加工面を前記レーザ光でベクトル走査するスキャナヘッド7とを備え、前記AOM5は、前記スキャナヘッド7による前記レーザ光のベクトル走査速度に比例して、或いは、前記レーザ光のエネルギー密度が略一定となるように、前記レーザ光の強度を調整する構成とした。

請求項（抜粋）：

光源から出力された光を、対象物に照射し走査するスキャナ光学システムであって、 前記光の強度を調整する光強度調整手段と、 前記光を前記対象物の所定位置に向けて偏向すると共に、ゼロレベルから所定の走査速度となるように前記光を偏向する偏向手段とを備え、 前記光強度調整手段は、前記偏向手段による光の走査速度に比例して、或いは、前記光のエネルギー密度が略一定となるように、前記光の強度を調整することを特徴とするスキャナ光学システム。

IPC (8件)：

G02B 26/10 ,  B23K 26/04 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/10 ,  H01S 3/11

FI (11件)：

G02B26/10 Z ,  G02B26/10 104Z ,  B23K26/04 C ,  B23K26/00 M ,  B23K26/06 J ,  B23K26/06 Z ,  B23K26/08 B ,  H01S3/00 B ,  H01S3/10 A ,  H01S3/11 ,  G02B26/10 C

Fターム (25件)：

2H045AB13 ,  2H045AB33 ,  2H045AB62 ,  2H045BA15 ,  2H045CA85 ,  2H045CB24 ,  2H045CB42 ,  2H045DA31 ,  4E068CA02 ,  4E068CA11 ,  4E068CB01 ,  4E068CC06 ,  4E068CD10 ,  4E068CD12 ,  4E068CE03 ,  5F172NN13 ,  5F172NN27 ,  5F172NQ15 ,  5F172NQ23 ,  5F172NQ25 ,  5F172NR03 ,  5F172NR04 ,  5F172NR06 ,  5F172NR12 ,  5F172ZZ01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• レーザ加工装置とレーザ加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-159265   出願人：松下電器産業株式会社