特許

J-GLOBAL ID：201003082895739653

感活性光線または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法

発明者： 吉田 優子 ,  土村 智孝 ,  山口 修平
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (21件)： 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-311431
公開番号（公開出願番号）：特開2010-134279
出願日： 2008年12月05日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：

【課題】LWRとMEEFとが良好である、ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(0)で表される酸を発生する少なくとも1種の化合物、および(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。【化1】 一般式(0)において、R1は、有機基を表す。R2は、水素原子又は有機基を表す。R1とR2とが結合して単環若しくは多環構造を形成してもよい。Aは、酸あるいは塩基の作用により分解する基を表す。nは1又は2を表す。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(0)で表される酸を発生する少なくとも1種の化合物、および (B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/17 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027 ,  C07D 317/28 ,  C07D 491/113 ,  C07D 319/08

FI (9件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R ,  C07D317/28 ,  C07D491/113 ,  C07D319/08

Fターム (28件)：

2H025AA04 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4C022HA04 ,  4C050AA04 ,  4C050BB07 ,  4C050CC17 ,  4C050EE01 ,  4C050FF01 ,  4C050GG01 ,  4C050HH01 ,  4H006AA01 ,  4H006AB80

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第4150509号
  
• 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-342811   出願人：富士フイルム株式会社