特許
J-GLOBAL ID:201003083295651716
半導体装置及びその駆動方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (11件):
前田 弘
, 竹内 宏
, 嶋田 高久
, 竹内 祐二
, 今江 克実
, 藤田 篤史
, 二宮 克也
, 原田 智雄
, 井関 勝守
, 関 啓
, 杉浦 靖也
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2007072476
公開番号(公開出願番号):WO2008-062800
出願日: 2007年11月20日
公開日(公表日): 2008年05月29日
要約:
半導体装置は、基板11の上に形成され、チャネル領域を有する半導体層積層体13と、半導体層積層体13の上に互いに間隔をおいて形成された第1の電極16A及び第2の電極16Bと、第1の電極16Aと第2の電極16Bとの間に形成された第1のゲート電極18A及び第1のゲート電極18Aと第2の電極16Bとの間に形成された第2のゲート電極18Bとを備えている。半導体層積層体13と第1のゲート電極18Aとの間には、p型の導電性を有する第1のコントロール層19Aが形成されている。
請求項(抜粋):
基板の上に形成され、チャネル領域を有する半導体層積層体と、
前記半導体層積層体の上に互いに間隔をおいて形成された第1の電極及び第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に形成された第1のゲート電極及び該第1のゲート電極と前記第2の電極との間に形成された第2のゲート電極と、
前記半導体層積層体と前記第1のゲート電極との間に形成され、p型の導電性を有する第1のコントロール層とを備えている半導体装置。
IPC (4件):
H01L 29/80
, H01L 21/337
, H01L 29/808
, H02M 1/08
FI (4件):
H01L29/80 W
, H01L29/80 C
, H02M1/08 A
, H02M1/08 C
Fターム (37件):
5F102FA00
, 5F102FA01
, 5F102FA02
, 5F102FA03
, 5F102FA09
, 5F102GA02
, 5F102GB01
, 5F102GC05
, 5F102GD01
, 5F102GD05
, 5F102GJ02
, 5F102GJ03
, 5F102GJ04
, 5F102GJ10
, 5F102GK04
, 5F102GK08
, 5F102GL04
, 5F102GM04
, 5F102GR01
, 5F102GR04
, 5F102GR10
, 5F102GS01
, 5F102GT01
, 5F102GV05
, 5F102GV07
, 5F102GV08
, 5F102HC01
, 5F102HC10
, 5F102HC15
, 5F102HC19
, 5F102HC21
, 5H740BA12
, 5H740HH05
, 5H740JA01
, 5H740JB01
, 5H740KK03
, 5H740KK04
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
半導体装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-058021
出願人:三菱電機株式会社
-
プラズマディスプレイ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-027843
出願人:松下電器産業株式会社
-
米国特許出願公開2005/018956号明細書
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