特許
J-GLOBAL ID：201003090645458546

光走査装置および画像形成装置

発明者：
村上 知之

村上 知之 について

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今井 久悦

今井 久悦 について

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吉田 大輔

吉田 大輔 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-286298
公開番号（公開出願番号）：特開2010-113194
出願日： 2008年11月07日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：
【課題】アパーチャの熱的影響による変形を抑制することができる光走査装置および画像形成装置を提供する。【解決手段】アパーチャ取付面であるアパーチャ受け面205のベース台104aからの高さHを、光路Lのベース台104aからの高さhよりも高くした。これにより、ベース台104aからアパーチャ受け面205までの距離を長くすることができ、アパーチャ固定台201から受け面205へ熱が導電される過程で、アパーチャ固定台201から放出される放熱量を多くできる。よって、受け面205の温度上昇を抑えることができ、受け面205からアパーチャ106へ伝導する熱量を少なくすることができる。その結果、アパーチャ106の温度上昇を抑制することができ、アパーチャの熱膨張によるスリット301a、301bの変形を抑制することができる。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
光源と、前記光源から出射される光ビームを狙いの形状に成形するアパーチャと、該光ビームを偏向走査する偏向走査手段とを収納する光学ハウジングを有し、光源から出射した光ビームによって走査対象物を光走査する光走査装置において、 前記光学ハウジングは、熱伝導性の部材で構成され、前記偏向走査手段が固定されるベース台と、前記ベース台上に設けられ、前記アパーチャが取り付けられるアパーチャ取付面とを有し、 前記アパーチャ取付面の前記ベース台からの高さを、光路の前記ベース台からの高さよりも高くしたことを特徴とする光走査装置。
IPC (2件)：
G02B 26/10 ,  G02B 26/12
FI (2件)：
G02B26/10 F ,  G02B26/10 102
Fターム (8件)：
2H045AA13 ,  2H045AA33 ,  2H045AA59 ,  2H045CA63 ,  2H045CA93 ,  2H045CB03 ,  2H045DA02 ,  2H045DA04
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)
  • 光走査装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-376930   出願人：株式会社リコー
  • 走査光学装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-118481   出願人：キヤノン株式会社
  • 走査光学装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-345319   出願人：キヤノン株式会社

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