特許

J-GLOBAL ID：201003092995558350

無電解ニッケルめっき浴及び無電解ニッケルめっき方法

発明者： 稲川 拡 ,  橋本 大督 ,  石丸 真次 ,  木曽 雅之
出願人/特許権者： 上村工業株式会社
代理人 (4件)： 小池 晃 ,  伊賀 誠司 ,  藤井 稔也 ,  野口 信博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-308536
公開番号（公開出願番号）：特開2010-132949
出願日： 2008年12月03日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：

【課題】有害な金属を含有しない無電解ニッケルめっき浴を提供する。【解決手段】無電解ニッケルめっき浴は、少なくとも鉄イオン源及びヨウ素イオン源を含有する。このように、少なくとも鉄イオン源及びヨウ素イオン源を含有する無電解ニッケルめっき浴を用いることで、有害な金属を使用することなくめっき浴の分解を抑制して、めっき浴の安定化を図ることができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも鉄イオン源及びヨウ素イオン源を含有する無電解ニッケルめっき浴。

IPC (1件)：

C23C 18/34

FI (1件)：

C23C18/34

Fターム (10件)：

4K022AA02 ,  4K022BA14 ,  4K022DA01 ,  4K022DB01 ,  4K022DB02 ,  4K022DB03 ,  4K022DB07 ,  4K022DB26 ,  4K022DB28 ,  4K022DB29

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 無電解ニッケルめっき液およびそれを使用しためっき方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-347544   出願人：コーア株式会社
• 無電解ニッケル-リンめっき液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-323020   出願人：日立化成工業株式会社, 日立ボーデン株式会社
• 無電解めっき液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-264882   出願人：株式会社デンソー

審査官引用 (2件)

• 無電解ニッケル-リンめっき液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-323020   出願人：日立化成工業株式会社, 日立ボーデン株式会社
• 無電解めっき液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-264882   出願人：株式会社デンソー