特許

J-GLOBAL ID：201003093932586627

ポリフェニルアセチレン膜の芳香環形成による超分子自立膜の製造方法

発明者： 青木 俊樹 ,  浪越 毅 ,  波多野 慎悟 ,  エディ マルワンタ ,  寺口 昌宏 ,  金子 隆司 ,  鬼山 祥幸
出願人/特許権者： 国立大学法人 新潟大学
代理人 (3件)： 牛木 護 ,  吉田 正義 ,  清水 栄松
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-038313
公開番号（公開出願番号）：特開2010-189365
出願日： 2009年02月20日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：

【課題】反応速度が速く、完全に芳香環生成物のみからなる超分子自立膜を製造することのできる、ポリフェニルアセチレン膜の芳香環形成による超分子自立膜の製造方法を提供する。【解決手段】ポリフェニルアセチレン膜に蛍光灯による可視光を照射した。ポリフェニルアセチレン膜としては、ポリ(4-ドデシルオキシ-3,5-ビス(ヒドロキシメチル)フェニルアセチレン)膜、ポリ(4-[4-(フェニルエチニル)ベンジルオキシ]-3,5-ビス(ヒドロキシメチル)フェニルアセチレン)膜、ポリ(4-[4-(ドデシルオキシ)ベンジルオキシ]-3,5-ビス(ヒドロキシメチル)フェニルアセチレン)膜のいずれかが好適である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ポリフェニルアセチレン膜に蛍光灯による可視光を照射することを特徴とするポリフェニルアセチレン膜の芳香環形成による超分子自立膜の製造方法。

IPC (4件)：

C07C 41/30 ,  C08F 38/02 ,  C08F 8/48 ,  C07C 43/23

FI (4件)：

C07C41/30 ,  C08F38/02 ,  C08F8/48 ,  C07C43/23 D

Fターム (20件)：

4H006AA02 ,  4H006AC28 ,  4H006BA24 ,  4H006BA44 ,  4H006GP03 ,  4H006GP10 ,  4H039CA41 ,  4H039CH30 ,  4J100AT05P ,  4J100AT13P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC35 ,  4J100HA40 ,  4J100JA00