特許
J-GLOBAL ID：201003096107685654
ヘアトリートメント適用システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
, 田口 雅啓
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-531001
公開番号（公開出願番号）：特表2010-505502
出願日： 2007年10月09日
公開日（公表日）： 2010年02月25日
要約：
本明細書では、ヘアトリートメント適用システム(10)及びその使用方法が開示される。ヘアトリートメント適用システム(10)は、約300ミクロン〜約3,000ミクロンの特定のメジアン細孔半径を有する少なくとも1つの吸収性基材(30)と、それぞれ約3Pa.s(3,000cPs)〜約150Pa.s(150,000cPs)の粘度を有する1つ以上のヘアトリートメント組成物(15)との組合せを含む。本発明に従うヘアトリートメント適用システム(10)は、ヘアトリートメント組成物(15)、特に組成物の簡単で、扱いにくくなく、正確な適用を可能にする。
請求項（抜粋）：
ヘアトリートメント適用システム(10)であって、
-少なくとも1つの吸収性基材(30)と、
-1つ以上のヘアトリートメント組成物(15)と
を含み、
前記少なくとも1つの吸収性基材(30)は、300ミクロン〜3,000ミクロンのメジアン細孔半径を有し、
前記1つ以上のヘアトリートメント組成物(15)はそれぞれ、3Pa.s(3,000cPs)〜150Pa.s(150,000cPs)の粘度を有し、前記粘度は、前記1つ以上のヘアトリートメント組成物(15)を前記少なくとも1つの吸収性基材(30)に適用する前に測定される、ヘアトリートメント適用システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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