特許

J-GLOBAL ID：201003096826574392

焦点位置制御方法及び焦点位置制御装置

発明者： 森部 英征
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (3件)： 棚井 澄雄 ,  森 隆一郎 ,  松尾 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-061583
公開番号（公開出願番号）：特開2010-217317
出願日： 2009年03月13日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：

【課題】(1)回析光によって発生するフォーカス誤差を抑止し、焦点を正確に合わせる。(2)小型、簡素、低価格な構成で焦点を正確に合わせる。(3)微細構造(例えば、レチクル)の欠陥をより確実に検出する。【解決手段】複数の検査領域である第1〜第6ストリーム(1st〜6st)が相関性をもって隣接する検査対象物に用いられ、該検査対象物からの反射光を利用して焦点位置を検出し、該検出結果に基づき焦点位置制御を行う焦点位置制御方法及び装置であって、前記複数の検査領域のうち一の検査領域について検出された焦点位置情報群に多項式近似の演算処理を行い、その演算処理結果を基に、前記一の検査領域に隣接する検査領域についての焦点位置制御を焦点深度の範囲内で行うことを特徴とする。【選択図】図12

請求項（抜粋）：

複数の検査領域が相関性をもって隣接する検査対象物に用いられ、前記検査対象物からの反射光を利用して焦点位置を検出し、該検出結果に基づき焦点位置制御を行う焦点位置制御方法であって、 前記複数の検査領域のうち一の検査領域について検出された焦点位置情報群に多項式近似の演算処理を行い、その演算処理結果を基に、前記一の検査領域に隣接する検査領域についての焦点位置制御を焦点深度の範囲内で行うことを特徴とする焦点位置制御方法。

IPC (1件)：

G02B 7/28

FI (1件)：

G02B7/11 J

Fターム (8件)：

2H051AA11 ,  2H051CB19 ,  2H051CE10 ,  2H051DD16 ,  2H151AA11 ,  2H151CB19 ,  2H151CE10 ,  2H151DD16

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 表面画像投影装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-096466   出願人：株式会社東京精密
• 断面形状測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-233464   出願人：株式会社ニコン