特許
J-GLOBAL ID：201003097634896260
光学素子及びそれを有する光学装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-236311
公開番号（公開出願番号）：特開2010-072046
出願日： 2008年09月16日
公開日（公表日）： 2010年04月02日
要約：
【課題】 作製プロセスに熱水処理を有する光学素子において,処理によって基板表面が変質してしまうことを防ぐ。【解決手段】 60°C〜85°Cの熱水中に10分以上浸漬して製造される光学素子において、ガラス基板の材料の耐水性、耐酸性が所定の条件式を満足することを特徴とする光学素子。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
60°C乃至85°Cの熱水に10分以上浸漬されることにより製造される光学素子であって、前記光学素子は、ガラス基板と、該ガラス基板上に形成された光学膜を有しており、a、bをそれぞれ日本光学硝子工業会規格による粉末法耐水性および粉末法耐酸性の各級に対応する1乃至6のいずれかの整数としたとき、前記ガラス基板を構成する材料は、
a×b<6
なる条件を満足することを特徴とする光学素子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
2K009AA01
, 2K009BB02
, 2K009CC14
, 2K009DD12
