特許

J-GLOBAL ID：201003097679077643

フォトマスク基板の作製方法

発明者： 堀口 竜二 ,  伊藤 公夫 ,  吉田 幸司 ,  栗原 正彰 ,  坂本 浩二 ,  戸津川 大輔
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (8件)： 田中 貞嗣 ,  小山 卓志 ,  菅井 英雄 ,  青木 健二 ,  韮澤 弘 ,  米澤 明 ,  飯高 勉 ,  片寄 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-032320
公開番号（公開出願番号）：特開2010-190935
出願日： 2009年02月16日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：

【課題】ガラス基板同士の貼り合わせが不要となり、作製が簡単なフォトマスク基板の作製方法を提供する。【解決手段】本発明のフォトマスク基板の作製方法は、透明基板100の第1面110に第1面遮光層111を設ける工程と、前記第1面遮光層111に所定の第1面開口パターン112を形成する工程と、前記透明基板100の第2面120に第2遮光層121を設ける工程と、前記第2遮光層121に所定の第2面開口パターン122を形成する工程と、前記第2面開口パターン122で前記透明基板100が露出している部分にCGHパターン123を形成する工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

透明基板の第1面に第1面遮光層を設ける工程と、 前記第1面遮光層に所定の第1面開口パターンを形成する工程と、 前記透明基板の第2面に第2遮光層を設ける工程と、 前記第2遮光層に所定の第2面開口パターンを形成する工程と、 前記第2面開口パターンで前記透明基板が露出している部分にCGHパターンを形成する工程と、を含むことを特徴とするフォトマスク基板の作製方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  G03F 1/14

FI (4件)：

G03F1/08 A ,  H01L21/30 528 ,  H01L21/30 502P ,  G03F1/14 A

Fターム (16件)：

2H095BA01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB06 ,  2H095BB08 ,  2H095BB10 ,  2H095BB14 ,  2H095BB28 ,  2H095BB33 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  2H095BC16 ,  2H095BC26 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046BA09 ,  5F046CB17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• フォトマスクおよびこれを用いた露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-201104   出願人：ソニー株式会社