特許
J-GLOBAL ID：201003098813546449
質量分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 良平
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2006324259
公開番号（公開出願番号）：WO2008-068847
出願日： 2006年12月05日
公開日（公表日）： 2008年06月12日
要約：
サンプル4を載せたプレート3をステージ2に装着しCCDカメラ14でサンプル観察画像を撮影し、これを画像データ記憶部23に保存する。それからオペレータはプレート3を取り出してサンプル4の上にMALDI用のマトリックスを吹き付け、そのプレート3を再びステージ2に装着する。その後、所定操作を行うと先に撮影されたマトリックス付着前の鮮明なサンプル観察画像が表示部24に表示されるから、この画像上で分析位置や領域を指定する。プレート3を脱着したことでサンプル4の位置はずれている可能性があるが、画像解析処理部44はプレート3上に設けられたマーキングの位置を認識することで位置ずれの方向や量を算出し、位置ずれ補正部42はその位置ずれを補正した座標を算出する。これにより、位置ずれがあっても鮮明なマトリックス付着前の観察画像上で指定された位置や領域を実際のサンプル上で高い精度で質量分析することができる。
請求項（抜粋）：
サンプルを載せるためのサンプルプレートが装置本体に着脱自在であり、該プレートを装置本体から取り外した状態で該プレート上に載せたサンプル上にマトリックスを付着させた後に該プレートを装置本体に装着し、マトリックスが付着されたサンプルにレーザ光を照射してイオン化を行うマトリックス支援レーザ脱離イオン化法によるイオン源を有する質量分析装置において、
a)マトリックス付着前のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、該プレート上のサンプルの2次元画像を取得して保持する撮像手段と、
b)該撮像手段により保持された2次元画像を表示手段に表示した表示画面上でオペレータが所望の位置を指定するための指定手段と、
c)マトリックス付着後のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、前記指定手段により指定されたサンプル上の位置に対してレーザ光を照射して該位置についての質量分析を実行する分析制御手段と、
を備えることを特徴とする質量分析装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2G041CA01
, 2G041DA04
, 2G041EA01
, 2G041EA03
, 2G041GA16
