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J-GLOBAL ID：201102203306951562   整理番号：11A0638874

界面活性剤分子集合体の光照射による崩壊・再形成制御

著者 (4件)： 松村充敏 (東京理大 大学院理工学研究科) ,  酒井秀樹 (東京理大 大学院理工学研究科) ,  酒井健一 (東京理大 大学院理工学研究科) ,  阿部正彦 (東京理大 大学院理工学研究科)
資料名： 表面(表面談話会・コロイド懇話会)  (Reviews and Topics on Surface Science & Technology Avant-Garde)
巻： 48  号： 10  ページ： 331-342  発行年： 2010年10月01日 
JST資料番号： G0745A  ISSN： 0367-648X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 紫外可視光照射により可逆なトランス-シス光異性化反応を示すアゾベンゼン修飾カチオン性界面活性剤(4-ブチルアゾベンゼン-4′-(オキシエチル)-トリメチルアンモニウムブロミド,AZTMA)を合成し,以下のように,アニオン界面活性剤(SDBS)を混合して自発形成ベシクルの調製を試み,紫外可視光照射によるベシクルの崩壊と形成の制御について検討した。1)AZTMA/SDBS/H₂O系の相状態,2)AZTMA/SDBS混合溶液の紫外可視光吸収スペクトル,3)AZTMA/SDBS混合液体の濁度の変化と濁度の界面活性剤全濃度依存性,4)AZTMA/SDBS混合ベシクル溶液の保持効率,5)AZTMA/SDBS混合溶液の相状態の濃度依存性,6)AZTMA/SDBS=9:1における相状態と紫外線照射によるミセル-ベシクル転移制御,7)ベシクル崩壊/再形成機構。結果,AZTMA/SDBS/H₂O系において,濃度混合比を最適に選択することにより,紫外光によるベシクルの崩壊(順制御)と紫外線照射によるベシクルの形成(逆制御)を同じ系で実現することを見出した。

シソーラス用語： *界面活性剤 ,  *分子集合体 ,  *光照射 ,  混合液体 ,  光異性化 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  混濁度 ,  濃度依存性 ,  *ベシクル ,  アゾ化合物 ,  アルキルベンゼン ,  状態図 ,  電気伝導率 ,  顕微鏡観察 ,  混合ミセル ,  ラメラ ,  希薄溶液 ,  粒度分布 ,  相転移 ,  動的光散乱
準シソーラス用語： SDBS ,  アゾベンゼン誘導体

分類 (3件)： 多成分系の相平衡・状態図一般  (CB03014B) ,  ミセル  (CB11020N) ,  その他の洗浄剤  (YG02040W)

物質索引 (1件)： 2-(4′-ブチルアゾベンゼン-4-イルオキシ)エチルトリメチルアミニウム・ブロミド

引用文献 (15件)：

• Kaler, E. W., Murthy, A. K., Rodriguez, B., Zasadzinski, A. N., Science, 245, 1371(1989).
• Kaler, E. W., Herington, K. L., Murthy, A. K., Zasadzinski, J. A. N., J. Phys. Chem., 96, 6698(1992).
• Herrington, K. L., Kaler, E. W., Miller, D. D., Zasadzinski, J. A. N., Chiruvolu, S., J. Phys. Chem., 97, 13792(1993).
• Chiruvolu, S., Zasadzinski, J. A., J. Phys. Chem., 100, 5874(1996).
• Sakai, H., Imamura, H., Kakizawa, Y., Abe, M., Kondo. Y., Yoshino, N., Harwell, J. H., Denki Kagak, u, 65, 669(1997).

タイトルに関連する用語 (4件)： 界面活性剤 ,  分子集合体 ,  光照射 ,  崩壊