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J-GLOBAL ID：201102216572786725   整理番号：11A0806256

ポリ(1,2-ブタジエン)ハニカム膜の延伸および光架橋により調製した強固な異方性高分子メッシュ

Robust anisotropic polymer meshes prepared by stretching and photo-crosslinking of poly(1,2-butadiene) honeycomb films

著者 (6件)： YABU Hiroshi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YABU Hiroshi (JST-PRESTO, JPN) ,  NAKAMICHI Yuki (Tohoku Univ., JPN) ,  HIRAI Yuji (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (JST-CREST, JPN)
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 13  号： 11  ページ： 4877-4880  発行年： 2011年03月21日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(メタクリル酸ε-カプロンアミド-b-アクリル酸デシルアミド)(A)を添加したポリ1,2-ブタジエン(B)の溶液の高湿度雰囲気中におけるキャストによりハニカム構造のABブレンド膜を作製した。一方向に延伸したハニカム膜をガラス基板に固定し,フォトマスク経由で紫外線照射によりパターンを形成した。水の接触角を測定し,濡れが異方性であることを確かめた。細胞配向,デジタルミクロ流体素子への応用を示唆した。

シソーラス用語： *ポリブタジエン ,  *ポリメタクリルアミド ,  *ジブロック共重合体 ,  *ポリマブレンド ,  高分子膜 ,  *延伸 ,  *ハニカム構造 ,  光架橋 ,  *異方性 ,  ナノ構造 ,  湿度 ,  プラスチックフィルム ,  紫外線照射 ,  パターン形成 ,  接触角 ,  *濡れ ,  キャストフィルム ,  高湿度 ,  一軸延伸
準シソーラス用語： ナノパターン形成 ,  ナノメッシュ

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (7件)： ブタジエン ,  延伸 ,  光架橋 ,  調製 ,  異方性 ,  高分子 ,  メッシュ