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J-GLOBAL ID：201102217805834950   整理番号：11A0560516

X線回折を用いたマイクロエレクトロニクス素材のナノスケール歪特性評価

Nanoscale strain characterization in microelectronic materials using X-ray diffraction

著者 (5件)： MURRAY Conal E. (I.B.M. T.J. Watson Res. Center, New York) ,  YING A. J. (Columbia Univ., New York) ,  POLVINO S. M. (Columbia Univ., New York) ,  NOYAN I. C. (Columbia Univ., New York) ,  CAI Z. (Argonne National Lab., Illinois)
資料名： Powder Diffraction  (Powder Diffraction)
巻： 25  号： 2  ページ： 108-113  発行年： 2010年06月 
JST資料番号： T0527A  ISSN： 0885-7156  CODEN： PODIE2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： X線回折 ,  マイクロエレクトロニクス ,  素材 ,  ナノスケール ,  歪特性 ,  評価