文献
J-GLOBAL ID:201102220848275816   整理番号:11A1619513

単分子層MoS2トランジスタはどれほど良好になり得るか?

How Good Can Monolayer MoS2 Transistors Be?
著者 (3件):
資料名:
巻: 11  号:ページ: 3768-3773  発行年: 2011年09月 
JST資料番号: W1332A  ISSN: 1530-6984  CODEN: NALEFD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
単分子層MoS2トランジスタの究極の性能限界を自己無撞着量子輸送シミュレーションに基づいて調べた。その結果,この素子の重要な特徴は,1)低い状態密度による大きいgm(4.4mS/μm),2)大きいバンドギャップによる大きいオンオフ電流比(>1010),3)増強ゲート制御による優れた短チャネル挙動(約10mV/Vのドレイン誘起障壁低下と約60mV/decadeの低い閾値スイング)にあることが分かった。これらの良好な電気的性質はこの素子が将来の低電力応用と低コスト電子応用への最も有望な候補になることを示している。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ  ,  その他の無機化合物の薄膜 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る