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J-GLOBAL ID：201102221720777076   整理番号：11A0124902

室温での化学気相蒸着により増強したプラズマにより成長した非晶性炭素窒化物の光学的,機械的,およびエッチング特性

Optical, mechanical and etch properties of amorphous carbon nitride films grown by plasma enhanced chemical vapor deposition at room temperature

著者 (4件)： KIM Sang Hoon (School of Semiconductor and Chemical Engineering, Dept. of BIN Fusion Technol., BK21 Center for Future Energy ...) ,  CHOI Cheol Min (School of Semiconductor and Chemical Engineering, Dept. of BIN Fusion Technol., BK21 Center for Future Energy ...) ,  LEE Kil Mok (School of Semiconductor and Chemical Engineering, Dept. of BIN Fusion Technol., BK21 Center for Future Energy ...) ,  HAHN Yoon-bong (School of Semiconductor and Chemical Engineering, Dept. of BIN Fusion Technol., BK21 Center for Future Energy ...)
資料名： Synthetic Metals  (Synthetic Metals)
巻： 160  号： 23-24  ページ： 2442-2446  発行年： 2010年12月 
JST資料番号： C0123B  ISSN： 0379-6779  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CH₄とN₂との混合気体を用いて,室温でのプラズマ加速化学蒸着により,非晶性炭素窒化物(a-CN)膜をSi(100)とSiO₂/Si(100)基質上で成長させた。堆積蒸着膜はC=NとC≡Nの2種類のバンド構造を示し,N₂含有量の増加と伴い,バンド構造はグラファイトに類似の構造に変化した。すべての試料は,300~800nmの波長帯で,低い光吸収係数(k<0.15)を示した。a-CN膜は,良好な耐エッチング性(すなわち,SiO₂よりも高い選択性)に示し,そのことは,新規なハードマスク材料としてのa-CN膜の有望な利用を示す。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *炭化物 ,  *窒化物 ,  プラズマ ,  非晶質 ,  *ウエハ【IC】 ,  バンド構造 ,  吸収係数 ,  エッチング ,  光吸収 ,  FTIR分光法 ,  Ramanスペクトル ,  二酸化ケイ素 ,  表面被覆
準シソーラス用語： ハードマスク ,  プラズマ加速化学蒸着 ,  化学的気相蒸着 ,  光吸収係数 ,  *炭窒化物 ,  表面コーティング

分類 (1件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (10件)： 室温 ,  化学 ,  気相蒸着 ,  増強 ,  プラズマ ,  成長 ,  非晶性 ,  炭素窒化物 ,  光学 ,  エッチング特性