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J-GLOBAL ID：201102222384971388   整理番号：11A0130623

極めて非対称なX線回折を使った表面と界面の定量的な歪分析

Quantitative strain analysis of surfaces and interfaces using extremely asymmetric x-ray diffraction

著者 (2件)： AKIMOTO Koichi (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  EMOTO Takashi (Toyota National Coll. Technol., Aichi, JPN)
資料名： Journal of Physics. Condensed Matter  (Journal of Physics. Condensed Matter)
巻： 22  号： 47  ページ： 473001,1-19  発行年： 2010年12月01日 
JST資料番号： B0914B  ISSN： 0953-8984  CODEN： JCOMEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *格子歪 ,  薄膜成長 ,  *X線回折 ,  *動力学的回折 ,  表面 ,  界面 ,  二酸化ケイ素 ,  ケイ素 ,  表面再構成 ,  ニッケル ,  水素 ,  スパッタ蒸着 ,  金 ,  イオン注入 ,  インジウム化合物 ,  ガリウム化合物 ,  リン化物 ,  *ロッキングカーブ ,  酸化ハフニウム ,  非対称性
準シソーラス用語： リン化ガリウムインジウム

分類 (3件)： X線回折法  (BK01020I) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (6件)： 非対称 ,  X線回折 ,  界面 ,  定量 ,  歪 ,  分析