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J-GLOBAL ID：201102224045565217   整理番号：11A1349912

低収縮性の再生可能なメタクリル酸エステルおよびそれらのUVナノインプリントリソグラフィーへの応用

Reworkable dimethacrylates with low shrinkage and their application to UV nanoimprint lithography

著者 (3件)： MATSUKAWA Daisaku (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  OKAMURA Haruyuki (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI Masamitsu (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 21  号： 28  ページ： 10407-10414  発行年： 2011年07月28日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アダマンタン-1,3-ジカルボン酸 1,3-ビス{2-[(2-メチル-1-オキソ-2-プロペン-1-イル)オキシエチリデンオキシ]エチル}エステル(ADMA),シクロヘキサン-1,4-ジカルボン酸 1,4-ビス{1-[(2-メチル-1-オキソ-2-プロペン-1-イル)オキシエチレンオキシ]エチル}エステル(CDCMA),1,1′-,[1,4-シクロヘキサンジイルビス(メチレンオキシエチリデン)]エステル(CDMA),メタクリル酸 1,1′-[(1-メチルエチリデン)ビス(4,1-フェニレン-オキシ-エチレンオキシエチリデン)]エステル(BPDMA)などの再加工可能なモノマ(A),光ラジカル開始剤,光酸発生剤の混合物膜をケイ素基板上に被覆し,シラン処理した石英スタンプを用いるナノインプリント/365nm紫外線照射によりパターンが転写された光架橋重合体を作製した。200nm~100μm幅のパターンが形成できた。254nm光照射により光酸発生,重合体の加水分解によりポリメタクリル酸鎖からAが再生した。インプリントパターンの収縮の要因を検討した。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  オレフィン化合物 ,  カルボン酸エステル ,  脂肪族カルボン酸 ,  不飽和カルボン酸 ,  シクロアルカン ,  架橋化合物 ,  脂環式化合物 ,  *光開始剤 ,  光酸発生剤 ,  ウエハ【IC】 ,  石英ガラス ,  スタンプ材 ,  パターン転写 ,  光架橋 ,  波長依存性 ,  *光解離 ,  加水分解 ,  収縮試験 ,  寸法安定性 ,  フォトリソグラフィー ,  アダマンタン誘導体 ,  シリコンウエハ ,  シクロヘキサン類 ,  メタクリラート類
準シソーラス用語： ケイ素基板 ,  シクロヘキサン誘導体 ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  ビスフェノールA誘導体 ,  メタクリル酸エステル

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子の分解,劣化  (CG03010A) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A)

物質索引 (1件)： アダマンタン-1,3-ジカルボン酸ビス[2-[1-(メタクリロイルオキシ)エトキシ]エチル]

タイトルに関連する用語 (4件)： 収縮性 ,  メタクリル酸エステル ,  UVナノインプリントリソグラフィー ,  応用