文献
J-GLOBAL ID:201102225358549138   整理番号:11A1502240

銅めっき薄膜のクリープ特性に関する研究

Creep Characteristics of Electrolytic Copper Thin Films
著者 (6件):
資料名:
巻: 60  号:ページ: 831-837 (J-STAGE)  発行年: 2011年 
JST資料番号: F0385A  ISSN: 0514-5163  CODEN: ZARYA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
本論文では,銅メッキ薄膜の3種類のクリープ特性について述べる。テンシルクリープそして破裂クリープ試験が353K,373K,398Kそして423Kにおいて30mmゲージ長,5mm幅及び12μm厚さの3種類銅メッキ薄膜で実施された。銅メッキ薄膜メッキは直流薄膜(DC),周期逆パルス薄膜(PL),そしてビアホール薄膜(VF)である。DCとVFは同じクリープ断裂寿命を示し,それはPLより長かった。薄膜のこれらの種類では明らかな過度そして安定なクリープステージが見られたが,加速クリープステージは見られなかった。PLの最小クリープひずみ速度はDC及びVFのそれより早く,これはクリープ断裂寿命と良く一致する。より早いクリープひずみ速度を生ずる薄膜は,短いクリープ断裂寿命を持つ。最小クリープひずみ速度及びクリープ断裂寿命の関係はMonkman-Grant方程式のより良く表された。クリープ断裂寿命は主にクリープ変形速度により制御されるため,ゆっくりしたクリープひずみ速度の薄膜は,電子デバイスの使用には強固なクリープ抵抗を持つため好ましいことを意味する。異なる温度でのクリープ断裂寿命は,それぞれの薄膜におけるLarson-Millerパラメータと良く相関した。相関関係は,比較的短いクリープ試験からより長いクリープ断裂寿命を得るために温度加速試験が実効できることを示した。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
電気めっき  ,  金属材料 
引用文献 (15件):
もっと見る
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る