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J-GLOBAL ID:201102225486791979   整理番号:11A1057968

Gaを添加したp型Mg2SiおよびMg2Si0.6Ge0.4化合物の熱電特性と電子構造

Thermoelectric properties and electronic structure of p-type Mg2Si and Mg2Si0.6Ge0.4 compounds doped with Ga
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巻: 509  号: 23  ページ: 6503-6508  発行年: 2011年06月09日 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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タンタル坩堝中の直接融解とホットプレスによりMg2Si:GaxおよびMg2Si0.6Ge0.4:Gax(x=0.4%および0.8%)固溶体を合成した。300~850Kの温度範囲で熱起電力,電気抵抗率,Hall係数および熱伝導率を測定し,熱電特性に及ぼすGa添加の影響を調査した。熱起電力とHall係数がいずれも正であることから,全ての試料はこの温度範囲でp型伝導であることが分かった。Mg2Si0.6Ge0.4:Ga(0.8%)化合物は625K(ZT~0.36)において最大の無次元性能係数ZT値を示した。Mg2SiおよびMg2Si0.6Ge0.4(Si/Geサイト)における希釈GaはFermi準位が荷電子バンド端に移動して正孔ドナーとして振舞うため,Ga添加Mg2SiおよびMg2Si0.6Ge0.4化合物の熱電挙動のp型特性はKorringa-Kohn-Rostoker法および修正ポテンシャル近似(KKR-CPA)と良く一致した。荷電子バンド端におけるGa不純物からのDOSの大きなピークの始まりは,Ga添加試料で測定された高いSeebeck係数により裏付けられた。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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