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J-GLOBAL ID：201102226676001865   整理番号：11A0118248

磁気リソグラフィー:ボトムアップ工程から高スループットへ

Magnetolithography: From the Bottom-Up Route to High Throughput

著者 (2件)： BARDEA Amos (Weizmann Inst. Sci., Rehovot, ISR) ,  NAAMAN Ron (Weizmann Inst. Sci., Rehovot, ISR)
資料名： Advances in Imaging and Electron Physics  (Advances in Imaging and Electron Physics)
巻： 164  ページ： 1-16,16(1)-16(8),17-27  発行年： 2010年 
JST資料番号： A0364C  ISSN： 1076-5670  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *磁気 ,  永久磁石 ,  強磁性体 ,  ナノ粒子 ,  積層構造 ,  タンパク質 ,  ビオチニル化 ,  生産方式
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  *ナノパターン形成 ,  ボトムアップ ,  高スループット法 ,  走査電子顕微鏡法

分類 (1件)： 生物物理的研究法  (EA03020V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 磁気 ,  リソグラフィー ,  ボトムアップ ,  高スループット