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J-GLOBAL ID：201102227063171934   整理番号：11A1620350

先端デバイスのための高純度金属の調製

Preparation of high purity metals for advanced devices

著者 (3件)： ISSHIKI Minoru ,  MIMURA Kouji ,  UCHIKOSHI Masahito
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 519  号： 24  ページ： 8451-8455  発行年： 2011年10月03日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ppmまたはサブppmレベルの不純物の存在は,材料特性およびデバイス性能に重要な,時には決定的な影響を及ぼすため,よく制御された材料やデバイスを製造するに際し,純度は必須な要素の一つである。高度な技術の開発は新しい機能デバイスを製造するために必要な金属の利用可能性に強く依存し,さらに探索的材料研究のための商業的な純物質の純度は不十分で,すべての要件を満たす精製プロセスが開発されなければならない。本論文では,我々の経験に基づいて,例として,精製工程,精製法,および鉄の精製を構築する方法について説明する。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *純度 ,  *金属 ,  *不純物 ,  精製 ,  鉄 ,  陰イオン交換 ,  プラズマアーク融解 ,  質量分析 ,  ゾーン精製 ,  ケイ化物 ,  鉄化合物 ,  塩酸 ,  塩化物 ,  *高純度金属 ,  ケイ化鉄 ,  グロー放電質量分析
準シソーラス用語： GDMS【表面分析】

分類 (1件)： 精錬  (WD02040L)

タイトルに関連する用語 (2件)： 高純度金属 ,  調製