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J-GLOBAL ID：201102228218781293   整理番号：11A0474102

超高感度ピエゾ抵抗ひずみゲージを作製するためのリソグラフィ誘導シリコンナノワイヤの水平成長

Lithography guided horizontal growth of silicon nanowires for the fabrication of ultrasensitive piezoresistive strain gauges

著者 (4件)： FERNANDEZ-REGULEZ M. (CSIC, Bellaterra, ESP) ,  PLAZA J.A. (CSIC, Bellaterra, ESP) ,  LORA-TAMAYO E. (CSIC, Bellaterra, ESP) ,  PAULO A.S. (CSIC, Bellaterra, ESP)
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 87  号： 5-8  ページ： 1270-1273  発行年： 2010年05月 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (8件)： 高感度 ,  ピエゾ抵抗 ,  ひずみゲージ ,  作製 ,  リソグラフィ ,  誘導 ,  シリコンナノワイヤ ,  成長