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J-GLOBAL ID：201102238416675712   整理番号：11A0912807

誘導結合プラズマを使うことによるZnO薄膜の分布と選択性のドライエッチングの研究

A study on dry etching for profile and selectivity of ZnO thin films by using inductively coupled plasma

著者 (3件)： HEO Keyong-Moo (Chung-Ang Univ., Seoul, KOR) ,  WOO Jong-Chang (Chung-Ang Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Chang-Il (Chung-Ang Univ., Seoul, KOR)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 32nd  ページ： 161-162  発行年： 2010年 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *誘導結合プラズマ ,  *酸化亜鉛 ,  *プラズマエッチング ,  *半導体薄膜 ,  選択性 ,  加工速度 ,  表面反応 ,  X線光電子分光法 ,  走査電子顕微鏡

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 誘導結合プラズマ ,  ZnO薄膜 ,  分布 ,  ドライエッチング ,  研究