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J-GLOBAL ID：201102239753092229   整理番号：11A1623575

水素化脱硫触媒Ni₂Pの表面構造と反応性

著者 (7件)： 有賀寛子 (北大) ,  フェルナンデス アルビン (北大) ,  木下久美子 (北大) ,  高草木達 (北大) ,  大谷茂樹 (物質・材料研究機構) ,  大山S.Ted (東大) ,  朝倉清高 (北大)
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集  (触媒討論会(A)講演予稿集)
巻： 108th  ページ： 312  発行年： 2011年09月13日 
JST資料番号： S0874A  ISSN： 1343-9936  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： STM観察とLEED-IV測定から,Ni₂P(0001)と(10-10)表面の構造を検討し,それぞれの表面の原子レベル構造モデルを提案した。両表面共にPにより終端されており,Ni₂Pは,表面に露出するNiのdangling bondをNi-P結合により減少させることで表面を安定化していることが示唆された。(著者抄録)

シソーラス用語： *ニッケル化合物 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  *表面構造 ,  *水素化脱硫 ,  *リン化合物 ,  脱硫反応 ,  低速電子回折 ,  計算機シミュレーション ,  触媒反応 ,  反応機構 ,  *構造 ,  計算機利用 ,  利用

分類 (3件)： 酸化,還元  (CF02060T) ,  その他の触媒  (CB06123Z) ,  反応操作(単位反応)  (XE01040I)

タイトルに関連する用語 (3件)： 水素化脱硫触媒 ,  表面構造 ,  反応性