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J-GLOBAL ID：201102241108245120   整理番号：11A0807420

AlO_xN_y薄膜のイオンビームスパッタ蒸着によるシリコン太陽電池効率の改善

Improvement of silicon solar cell efficiency by ion beam sputtered deposition of AlO^xN^y thin films

著者 (8件)： CHEN Sheng-hui ,  HSU Chun-che ,  WANG Hsuan-wen ,  YEH Chi-li ,  TSENG Shao-ze ,  LIN Hung-ju ,  LEE Cheng-chung ,  PENG Cheng-yu
資料名： Applied Optics  (Applied Optics)
巻： 50  号： 9  ページ： C392  発行年： 2011年03月20日 
JST資料番号： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： p型シリコンの表面を不動態化するため,負電荷材料,AlO_xN_yを作成した。AlO_xN_yの作成は,p型シリコンウエハ表面上にAlN薄膜を蒸着するイオンビームスパッタリング蒸着と,続いて酸素雰囲気中のアニーリングにより可能になった。容量-電圧分析は,アニーリング後,固定した電荷密度が10¹¹cm^-2から2.26×10¹²cm^-2へ増大することを示す。太陽電池効率は15.9%から17.3%へ上昇した。これは表面再結合速度が1×10⁵から32cm/sへ低下したことと等しい。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： イオンビームスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  ケイ素 ,  *アルミニウム化合物 ,  酸化物 ,  窒化物 ,  不動態化 ,  容量電圧特性 ,  *エネルギー変換効率 ,  *太陽電池 ,  キャリア再結合 ,  負電荷 ,  熱処理 ,  窒化アルミニウム

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  イオンビーム ,  スパッタ蒸着 ,  シリコン太陽電池