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J-GLOBAL ID：201102246225027500   整理番号：11A0142844

誘導性結合高周波CH₄/H₂プラズマの実験とグローバルモデル

Experiments and global model of inductive RF CH₄/H₂ plasmas

著者 (2件)： 木村高志 (名古屋工大) ,  春日井宏樹 (名古屋工大)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-10  号： 108-119.121-129  ページ： 1-5  発行年： 2010年12月16日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： DLC成膜向け放電プラズマとして,誘導性結合高周波(13.56MHz)CH₄/H₂プラズマに着目し,プラズマ計測をラングミュアプローブ法と発光分光法を用いて行った。電子密度は水素混入率の増加に伴い減少するが,有効電子温度は水素混入率依存性は見られなかった。水素原子密度は10¹⁹~10²⁰m^-3のオーダーで水素混入率に依存しないが,電子密度で規格化された励起水素分子からの発光強度は,水素混入率の増加に伴い緩やかに増加した。グローバルモデルを用いて,CH₄/H₂放電中のプラズマ化学を理解した。

シソーラス用語： *誘導結合プラズマ ,  発光分光法 ,  *プラズマCVD ,  Langmuir探針 ,  *DLC膜 ,  *プラズマ分光 ,  水素 ,  確率密度関数 ,  アルカン
準シソーラス用語： 高周波プラズマ ,  放電プラズマ

分類 (2件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： メタン

引用文献 (10件)：

• M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg: Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, 2^nded, Wiley, New York (2005).
• J. Zhoul, I. T. Martinl, R. Ayers, E. Adams, D. Liul and E. R. Fisher: “Investigation of inductively coupled Ar and CH₄/Ar plasmas and the effect of ion energy on DLC film properties” Plasma Sources Sci. Technol. Vol.15 pp714-726(2006).
• 高井治:「NEW DIAMOND」, オーム社, p. 16(2000).
• T. Kimura and K. Ohe: “Emissive probe as a reference electrode in probe measurements” Rev. Sci. Instrum. Vol.64 pp3274-3277(1993).
• C. Lee and M. A. Lieberman: “Global model of Ar, O₂, Cl₂, and Ar/O₂ high-density plasma discharges”, J. Vac. Sci. Technol. A, Vol.13, pp 368-380(1995).

タイトルに関連する用語 (5件)： H2 ,  プラズマ ,  実験 ,  グローバル ,  モデル