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J-GLOBAL ID：201102248565757417   整理番号：11A1189287

自己組織化高分子多孔質構造を利用して作製したシリコン微細構造の濡れ性パターニング

Fabrication and Wettability Patterning of Nano-structured Silicon Surface by using Self-organized Polymer Structures

著者 (9件)： 平井悠司 (東北大学多元物質科学研究所) ,  藪浩 (東北大学多元物質科学研究所) ,  松尾保孝 (北海道大学電子科学研究所) ,  松尾保孝 (JST-CREST) ,  居城邦治 (北海道大学電子科学研究所) ,  居城邦治 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大学多元物質科学研究所) ,  下村政嗣 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大学原子分子材料科学高等研究機構)
資料名： 表面科学  (JSSSJ)
巻： 32  号： 7  ページ： 416-421 (J-STAGE)  発行年： 2011年 
JST資料番号： F0940B  ISSN： 0388-5321  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： N-ドデシルアクリルアミド/6-アクリルアミドヘキサン酸の共重合体である両親媒性高分子とポリスチレンの混合物溶液をガラス基板上に塗布してハニカム状多孔質膜を作製し,UV-オゾン処理で表面を親水化し,ポリビニルアルコールをスピンコートしたのち,シリコン基板に押し付けてハニカム状多孔質膜シリコン基板に移し取った。スコッチテープで多孔質膜の底部をはがしとり,シリコン基板にハニカム状多孔質膜を作成した。この多孔質膜をマスクとしSF₆をエッチングガス,C₄F₈をパッシベーションガスとしてシリコン基板をドライエッチングし,ナノスパイクアレイ構造を得た。FE-SEMにより構造を観察し,階層的な突起を有するナノピラーの形成を認めた。水滴の接触角度は約165度で,超撥水性であり,XPSによりフッ素の残存を認めた。UV-オゾン処理でフッ素を除くと表面は超親水性を示した。UV-オゾン処理をフォトマスク存在下に行えば,任意のパターンで超撥水性と超親水性の表面を得られることが分かった。

シソーラス用語： 自己組織化 ,  *ウエハ【IC】 ,  ポリスチレン ,  共重合体 ,  ハニカム構造 ,  膜 ,  基板 ,  ドライエッチング ,  接触角 ,  オゾン処理 ,  *親水性 ,  *疎水性 ,  X線光電子分光法 ,  *パターン形成 ,  微細加工 ,  ポリビニルアルコール ,  紫外線照射 ,  ナノ構造 ,  走査電子顕微鏡 ,  パターン転写 ,  ガラス基板 ,  ナノピラー ,  多孔質膜 ,  *超親水性 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  *シリコンウエハ ,  *超撥水
準シソーラス用語： FE-SEM ,  *シリコン基板 ,  *ナノパターン形成 ,  *超撥水性

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固-液界面  (CB12050B)

物質索引 (2件)： 6-(アクリロイルアミノ)ヘキサン酸 ,  N-ドデシルアクリルアミド

引用文献 (26件)：

• 1) P. Ball: Nature 400, 507 (1999).
• 2) T.L. Sun, L. Feng, X.F. Gao and L. Jiang: Acc. Chem. Res. 38, 644 (2005).
• 3) F. Xia and L. Jiang: Advanced Materials 20, 2842 (2008).
• 4) W. Barthlott and C. Neinhuis: Planta 202, 1 (1997).
• 5) A.R. Parker and C.R. Lawrence: Nature 414, 33 (2001).

タイトルに関連する用語 (8件)： 自己組織化 ,  高分子 ,  多孔質構造 ,  作製 ,  シリコン ,  微細構造 ,  濡れ性 ,  パターニング