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J-GLOBAL ID：201102249778588208   整理番号：11A1829755

SiGe量子ドットプローブによる局所相互作用イメージング

Local interaction imaging by SiGe quantum dot probe

著者 (19件)： JEONG Yonkil (School of Materials Sci., Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  JEONG Yonkil (JST Advanced Measurement and Analysis, Saitama, JPN) ,  HIRADE Masato (School of Materials Sci., Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  HIRADE Masato (JST Advanced Measurement and Analysis, Saitama, JPN) ,  HIRADE Masato (Shimadzu Corp., Kyoto, JPN) ,  KOKAWA Ryohei (JST Advanced Measurement and Analysis, Saitama, JPN) ,  KOKAWA Ryohei (Shimadzu Corp., Kyoto, JPN) ,  YAMADA Hirofumi (JST Advanced Measurement and Analysis, Saitama, JPN) ,  YAMADA Hirofumi (Dep. of Electronic Engineering, Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KOBAYASHI Kei (JST Advanced Measurement and Analysis, Saitama, JPN) ,  KOBAYASHI Kei (Innovative Collaboration Center, Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  OYABU Noriaki (JST Advanced Measurement and Analysis, Saitama, JPN) ,  OYABU Noriaki (Dep. of Electronic Engineering, Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  ARAI Toyoko (JST Advanced Measurement and Analysis, Saitama, JPN) ,  ARAI Toyoko (Graduate School of Natural Sci. and Technol., Kanazawa Univ., Ishikawa, JPN) ,  SASAHARA Akira (School of Materials Sci., Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  SASAHARA Akira (JST Advanced Measurement and Analysis, Saitama, JPN) ,  TOMITORI Masahiko (School of Materials Sci., Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  TOMITORI Masahiko (JST Advanced Measurement and Analysis, Saitama, JPN)
資料名： Current Applied Physics  (Current Applied Physics)
巻： 12  号： 2  ページ： 581-584  発行年： 2012年03月 
JST資料番号： W1579A  ISSN： 1567-1739  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大気圧での周波数変調モード非接触原子間力顕微鏡により,高アスペクト比(HAR)SiGe量子ドット(QD)プローブを用いて,劈開したInAs(110)表面の局所相互作用をイメージ化することに成功した。大きな輝度を持つ局所コントラスト像が得られたのは,主に,HAR SiGe-QDプローブ開口と試料表面間の非接触ポテンシャル差,および,HAR SiGe-QDプローブの低い周波数変化に起因する。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ケイ素合金 ,  量子ドット ,  *相互作用 ,  画像処理 ,  原子間力顕微鏡 ,  アスペクト比 ,  ヒ化インジウム
準シソーラス用語： SiGe合金 ,  *画像化 ,  イメージング ,  非接触原子間力顕微鏡 ,  高アスペクト比 ,  InAs

分類 (1件)： 電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B)

タイトルに関連する用語 (4件)： SiGe ,  量子ドット ,  プローブ ,  イメージング