Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub>上での炭化水素の選択的光酸化の反応機構

FURUKAWA Shinya; SHISHIDO Tetsuya; TERAMURA Kentaro; TANAKA Tsunehiro

文献

J-GLOBAL ID：201102253238552902 整理番号：11A1732466

Nb₂O₅上での炭化水素の選択的光酸化の反応機構

Reaction Mechanism of Selective Photooxidation of Hydrocarbons over Nb₂O₅

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=11A1732466&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=11A1732466&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=W1877A") }}

著者 (4件)： , , ,
資料名：
巻： 115 号： 39 ページ： 19320-19327 発行年： 2011年10月06日
JST資料番号： W1877A ISSN： 1932-7447 CODEN： JPCCCK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Nb₂O₅表面で溶媒がなくても光触媒的に炭化水素が選択的に空気酸化されることを見いだした。シクロヘキサンとエチルベンゼンの酸化の場合,Nb₂O₅触媒は汎用的なTiO₂触媒より高選択的に部分酸化物を生成した。Nb₂O₅表面でシクロヘキサンを光触媒的に空気酸化した場合,生成物中のケトン/アルコール比はTiO₂表面での同比よりずっと大きいことが分かった。分光学的データと速度論研究の結果から,炭化水素と二酸素の両分子が触媒表面に吸着し,吸着炭化水素のC-H結合が光化学的に発生した正孔によって活性化されアルキルラジカル,吸着二酸素は光化学的に発生した電子により還元されて超酸化物アニオンをそれぞれ生成し,両者が反応してヒドロペルオキシドが中間体として生成する機構を提案した。ヒドロペルオキシド中間体がケトンに転換し,表面から脱離する。この反応機構は典型的なLangmuir-Hinshelwood機構である。いくつかの炭化水素のC-H結合解離エネルギーと反応速度の対数の間の直線関係から,この反応の律速過程はC-H結合活性化過程であることを示した。電子スピン共鳴(ESR)スペクトル研究から,Nb₂O₅表面での部分酸化生成物に対する高選択性は,TiO₂で検出されるO₃^-が生成しないためと考えられる。

, , , , , , , , , , , , ,
, ,

光化学反応 , 不均一系触媒反応 , 酸化,還元 , シクロヘキサン系 , 芳香族単環炭化水素

前のページに戻る

Nb2O5上での炭化水素の選択的光酸化の反応機構

Nb₂O₅上での炭化水素の選択的光酸化の反応機構