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J-GLOBAL ID：201102256755035925   整理番号：11A1227707

VUV,VUV/O₃,O₂プラズマ前処置したシクロオレフイン高分子の低温直接貼合せの研究

Studies on low-temperature direct bonding of VUV, VUV/O₃ and O₂ plasma pretreated cyclo-olefin polymer

著者 (3件)： SHINOHARA Hidetoshi (Major in Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda Univ., 3-4-1, Okubo, Shinjyuku, Tokyo 169-8555, JPN) ,  MIZUNO Jun (Nanotechnology Res. Lab., Waseda Univ., 513, Wasedatsurumaki-cho, Shinjyuku, Tokyo 162-0041, JPN) ,  SHOJI Shuichi (Major in Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda Univ., 3-4-1, Okubo, Shinjyuku, Tokyo 169-8555, JPN)
資料名： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： 165  号： 1  ページ： 124-131  発行年： 2011年01月 
JST資料番号： B0345C  ISSN： 0924-4247  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二枚のシクロオレフイン高分子(COP)板の低温直接貼合せを真空紫外線(VUV)照射,酸素気体存在下のVUV照射(VUV/O₃),又は酸素プラズマ処理などの前処理により実現した。付着強さは十分に強く,試料の引張試験後に破壊表面上に塊状の破壊を観測した。低温直接貼合せの基本機構を調べるために,処理したCOP試料の減衰全反射Fourier変換赤外分光分析器(ATR-FT-IR),X線光電子分光法(XPS),接触角測定,原子間力顕微鏡(AFM)表面分析を行った。これらの実験結果は極性官能基(例えば,-OH,-COOH)が各処理により発生することを示した。これらの基は室温で前処理したCOPの表面上に水素結合を含む双極子相互作用を発生させると期待される。VUVとVUV/O₃による処理では,COPの分解も生じ,分解層は直接接合の接着剤として作用した。熱アニーリングは水素結合から変化した強い共有結合(-C-O-C-)の創造を高める。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *プラズマ処理 ,  真空紫外線 ,  紫外線照射 ,  オゾン ,  プラズマ ,  Fourier変換赤外分光分析 ,  ATR分光法 ,  FTIR分光法 ,  X線光電子分光法 ,  接触角 ,  電子顕微鏡観察 ,  水素結合 ,  共有結合 ,  シクロアルケン ,  *ポリアルケナマ ,  *貼合せ ,  酸素プラズマ
準シソーラス用語： 減衰全反射FTIR分光法

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (9件)： VUV ,  O3 ,  O2 ,  プラズマ ,  前処置 ,  高分子 ,  低温 ,  貼合せ ,  研究