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J-GLOBAL ID：201102257094886385   整理番号：11A0098075

拡張ナノ空間のためのナノ構造体による近接場光部分修飾法の評価

著者 (8件)： 赤池寛人 (東大) ,  蓮本尚佑 (東大) ,  馬渡和真 (東大) ,  馬渡和真 (JST-CREST) ,  杉井康彦 (東大) ,  杉井康彦 (JST-CREST) ,  北森武彦 (東大) ,  北森武彦 (JST-CREST)
資料名： 化学とマイクロ・ナノシステム研究会講演要旨集  (化学とマイクロ・ナノシステム研究会講演予稿集)
巻： 22nd  ページ： 79  発行年： 2010年11月17日 
JST資料番号： L4117A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *拡大 ,  *空間 ,  *ナノ構造 ,  近接場 ,  酸化チタン ,  膜 ,  表面粗さ ,  単分子層 ,  自己組織化 ,  *化学修飾 ,  疎水性 ,  表面構造 ,  *光触媒反応 ,  ローダミン染料 ,  放射強度 ,  レーザ照射 ,  蛍光顕微鏡 ,  *ナノ空間 ,  *近接場光 ,  蛍光強度 ,  構造
準シソーラス用語： *拡張 ,  *ナノ構造体

分類 (4件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  分析機器  (CC02020S)

物質索引 (1件)： オクタデシルトリメトキシシラン

タイトルに関連する用語 (6件)： 拡張 ,  ナノ空間 ,  ナノ構造体 ,  近接場光 ,  修飾 ,  評価