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J-GLOBAL ID：201102257122381316   整理番号：11A1928982

金ナノ粒子分散の単純な脱湿潤工程を用いて作製した柔軟な光透過性,導電性線/空間パターン形成膜

Flexible, Optically Transparent, and Conductive Line-and-Space-Patterned Films Prepared by Using a Simple Dewetting Process of Gold Nanoparticle Dispersions

著者 (5件)： NAKANISHI Takayuki (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HIRAI Yuji (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YABU Hiroshi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (JST-CREST, Tokyo, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 4  号： 11  ページ： 117301.1-117301.3  発行年： 2011年11月25日 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラス基板と柔軟な高分子基板上に金ナノ粒子分散を単に被覆するだけで,柔軟な光透過性,導電性線/空間パターンを形成した。二枚の高分子基板の間の間隙に金ナノ粒子分散を注入し,ステッピングモータを備えた自作装置を用いて上部基板を僅かに移動させた。基板上の金ナノ粒子の脱湿潤により,上部基板の端から供給された金ナノ粒子分散の後退するメニスカスから線/空間パターンが自発的に形成された。焼結後,線/空間パターン膜は光透過性(>80%)と面内異方伝導率(3.82×10³S・cm^-1)を示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  パターン形成 ,  濡れ ,  光透過 ,  *透明導電膜 ,  *薄膜成長 ,  基板 ,  透明度 ,  ガラス基板 ,  *金ナノ粒子 ,  高分子基板
準シソーラス用語： 光透過性 ,  脱湿潤

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (17件)：

• LEE, J. H. J. Cryst. Growth. 2003, 247, 119
• KAKIHARA, Y. Japan Patent 2010-165638. 2011
• KUBO, W. J. Mater. Chem. 2009, 19, 2154
• MURATA, K. Microsyst. Technol. 2005, 12, 2
• SHIMOMURA, M. Nanocrystals Forming Mesoscopic Structures. 2005, Chap. 6

タイトルに関連する用語 (6件)： 金ナノ粒子 ,  湿潤 ,  作製 ,  光透過性 ,  導電性 ,  パターン形成