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J-GLOBAL ID：201102263027709487   整理番号：11A0167351

太陽電池に適用する為の,アルミニューム誘発テクスチャードガラス上層のPECVD ポリシリコン薄膜の ランバート面マッチした吸収強化(Lambertian matched absorption enhancement in PECVD poly-Si thin film on aluminum induced textured glass superstrates for solar cell application)

Lambertian matched absorption enhancement in PECVD poly-Si thin film on aluminum induced textured glass superstrates for solar cell applications

著者 (4件)： JIN Guangyao (Univ. New South Wales, NSW, AUS) ,  WIDENBORG Per I. (Univ. New South Wales, NSW, AUS) ,  CAMPBELL Patrick (Univ. New South Wales, NSW, AUS) ,  VARLAMOV Sergey (Univ. New South Wales, NSW, AUS)
資料名： Progress in Photovoltaics  (Progress in Photovoltaics)
巻： 18  号： 8  ページ： 582-589  発行年： 2010年12月 
JST資料番号： W0463A  ISSN： 1062-7995  CODEN： PPHOED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この論文は,テクスチャードガラス側に蒸着した,シリコン薄膜ダイオード構造の,様々なアルミニューム誘発テクスチャード(AIT)ガラス・トポグラフィの光吸収(上層配置で作動する(operating in the superstrate configuration))を強化する有効性(effectiveness)を調べる。AITを作る為のアルミニューム層は熱蒸発か,マグネトロン・スパッタリングにより,蒸着する。AITプロセスパラメータを変えると,広範囲の荒さ特性(feature roughness)と均一性を生み出し,テクスチャー有効性(texture effectiveness)とプロセス再現性を最適化する余地を与える。我々は,これらのテクスチャーからの吸収強化の程度と,AITガラスの暗視野顕微鏡像と蒸着したシリコン膜のスペクトル反射の干渉エンベロープ(interference envelope in spectral reflectance)の減少の2つの間には強い相関があることを,報告する。我々の発見はレイトレーシングに基づく以前のモデリング作業を確証する。それによれば,最良の強化は特性サイズ(feature size)が膜厚に近い時に起こると予測する。この論文では,我々はAITサンプルを膜厚1-3μmの範囲で調べ,その内のいくつかは,シリコン内で,ランベルトリミット(at the Lambertian limit)と同等の強さで光を捕える。

シソーラス用語： *太陽電池 ,  *テキスチャード加工 ,  *ポリシリコン ,  *スパッタリング ,  ダイオード ,  トポグラフィー【形態】 ,  *光吸収 ,  視野 ,  顕微鏡
準シソーラス用語： プラズマスパッタリング ,  暗視野 ,  *薄膜太陽電池

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (8件)： 太陽電池 ,  アルミニューム ,  誘発 ,  上層 ,  PECVD ,  シリコン薄膜 ,  マッチ ,  強化