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J-GLOBAL ID：201102270108765450   整理番号：11A0539428

ポリスルホンでテンプレートされたリソグラフィーを使用して製造されるNiナノドットの形態と磁気特性に対するテンプレート工学の影響

Effect of template engineering on morphology and magnetic properties of Ni nanodots fabricated using polysulfone templated lithography

著者 (3件)： RAMASWAMY Shivaraman (SRM Univ., Kancheepuram District, IND) ,  GOPALAKRISHNAN C (SRM Univ., Kancheepuram District, IND) ,  PONNAVAIKKO M (Bharathidasan Univ., Tamilnadu, IND)
資料名： Physica Scripta  (Physica Scripta)
巻： 82  号： 2  ページ： 025603,1-5  発行年： 2010年08月 
JST資料番号： A0454B  ISSN： 0031-8949  CODEN： PHSTBO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (8件)： ポリスルホン ,  テンプレート ,  リソグラフィー ,  Ni ,  ナノドット ,  形態 ,  磁気特性 ,  工学