文献

J-GLOBAL ID：201102272819612544   整理番号：11A0571810

CoFeB-MgO磁気トンネル接合部の特性へのRF-マグネトロンスパッタの間のO-イオンビーム照射の効果

Effect of O^- Ion Beam Irradiation during RF-Magnetron Sputtering on Characteristics of CoFeB-MgO Magnetic Tunnel Junctions

著者 (8件)： ONO Kazunaga (ULVAC, Inc., Shizuoka, JPN) ,  OHSHIMA Norikazu (NEC Corp., Sagamihara, JPN) ,  GOTO Kazuya (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  YAMAMOTO Hiroki (ULVAC, Inc., Shizuoka, JPN) ,  MORITA Tadashi (ULVAC, Inc., Shizuoka, JPN) ,  KINOSHITA Keizo (NEC Corp., Sagamihara, JPN) ,  ISHIJIMA Tatsuo (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TOYODA Hirotaka (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 50  号： 2  ページ： 023001.1-023001.4  発行年： 2011年02月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大規模基板内のCoFeB/MgO/CoFeB磁気トンネル接合部(MTJs)の電気特性とMgO層の結晶配向の間の関連を研究した。スパッタ条件に依存するMgO層の結晶配向の劣化によってCoFeB/MgO/CoFeB MTJsでのトンネル磁気抵抗特性と抵抗-エリアプロダクトは劣化した。この劣化は,MgO層のRF-マグネトロン・スパッタの間高エネルギー酸素負イオン照射に起因する損傷から始まる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *コバルト化合物 ,  鉄化合物 ,  ホウ化物 ,  酸化マグネシウム ,  *磁気 ,  *トンネル接合 ,  マグネトロンスパッタリング ,  イオンビーム ,  酸素 ,  結晶 ,  配向 ,  磁気抵抗

分類 (1件)： 磁電デバイス  (NC03100X)

引用文献 (19件)：

• T. Miyazaki and N. Tezuka: J. Magn. Magn. Mater.139(1995) L231.
• J. S. Moodera, L. R. Kinder, T. M. Wong, and R. Meservey: Phys. Rev. Lett.74(1995)3273.
• W. H. Butler, X.-G. Zhang, T. C. Shulthess, and J. M. MacLaren: Phys. Rev. B 63(2001)054416.
• J. Mathon and A. Umersky: Phys. Rev. B 63(2001)220403R.
• S. S. P. Parkin, C. Kaiser, A. Panchula, P. M. Rice, B. Hughes, M. Samant, and S.-H. Yang: Nat. Mater.3(2004)862.

タイトルに関連する用語 (4件)： MgO ,  磁気トンネル接合 ,  マグネトロンスパッタ ,  イオンビーム照射