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J-GLOBAL ID：201102275449578235   整理番号：11A1154072

反射防止の目的でナノ構造化ポリマーウェブへの薄膜成長

Thin film growth on nanostructured polymer webs for anti-reflection purposes

著者 (5件)： MUNZERT P. ,  SCHULZ U. ,  KAISER N. ,  SCHOENBERGER W. ,  FAHLAND M.
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 205  号： Supplement 2  ページ： S498-S501  発行年： 2011年07月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ構造は表面に反射防止特性を付与する代替法を提供するが,構造化技術の大部分は極めて複雑でコスト高である。JenaのFraunhofer-IOFでは,PMMA表面に単純なプラズマエッチング法を用いてナノ構造を創製する方法を開発した。ここで述べた研究では,高効率で低コストな反射防止表面の創製を意図して,ロール・ツー・ロールプロセスでポリマーウェブにこの技術を移転することを試みた。ウェブの期待される応用には薄いガラスライク層によるナノ構造化ポリマー表面の保護が重要である。このタスクの困難さは反射防止効果を低下させることなく同時に機械的安定性を向上させることである。ナノ構造化TAC試料への15nmから45nmの厚さのSiO₂層析出を含む最初の実験から,得られた反射スペクトルに大きな違いが認められた。こぶ状ナノ構造の場合,平均残留反射は保護層の膜厚増加により最小化したが,スポンジ状試料の反射曲線は単純により長い波長側へシフトした。これはSiO₂コーティングの異なる成長パターンで合理的に説明でき,SEM写真とも一致した。こぶ状ナノ構造上では膜がこぶを包み,材料/空気充てん比を反射防止に適した範囲に高めたが,スポンジ状構造上のコーティングは空隙を塞ぎ,構造のトップ上に主に成長した。この様なスポンジ型構造の上では,アブレージョン抵抗が著しく増加でき,ほぼ未処理の表面の値に達した。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ナノ構造 ,  生産方式 ,  反射防止膜 ,  表面改質 ,  反射率 ,  *薄膜成長 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  防止 ,  二酸化ケイ素 ,  プラズマエッチング ,  セルロースアセテート ,  *被覆 ,  プラスチックフィルム ,  *プラズマ処理 ,  蒸着膜 ,  電子ビーム蒸着 ,  保護膜 ,  酸化チタン ,  表面構造 ,  耐摩耗性 ,  セルローストリアセテート ,  ロール・ツー・ロール方式 ,  *光学被覆 ,  反射防止 ,  構造 ,  機械的性質 ,  耐性

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  表面処理  (YH04112X)

タイトルに関連する用語 (3件)： 反射防止 ,  ナノ構造 ,  薄膜成長