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J-GLOBAL ID：201102279403826400   整理番号：11A0553849

低エネルギーイオンビーム浸食中にSi表面に形成される自己組織化ナノ構造

Formation of self-organized nanostructures on Si surfces during low energy ion beam erosion

著者 (4件)： CHEN Zhi-li (Xi’an Technological Univ., Xi’an, CHN) ,  CHEN Zhi-li (Xidian Univ., Xi’an, CHN) ,  LIU Wei-guo (Xi’an Technological Univ., Xi’an, CHN) ,  XU Xiao-hui (Xi’an Technological Univ., Xi’an, CHN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7657  ページ： 76570Q.1-76570Q.5  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エピポリッシュした市販のSi(100)で表面粗さが約0.2nm(rms)の試料を用いた。イオンはAr⁺,ガスの純度は5ナイン,圧力は0.5から3Paであった。イオンエネルギー1000eVのイオンを垂直入射(入射角0度)で照射した試料面に密なドットパターンが形成された。入射角5度で照射した試料面にはさざ波パターンが形成された。さざ波パターンはBradleyとHarperのモデルに一致していた。

シソーラス用語： *アルゴン ,  *イオン照射 ,  ナノ構造 ,  *自己組織化 ,  画像 ,  入射角 ,  地表侵食
準シソーラス用語： ドットパターン ,  *表面侵食

分類 (2件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低エネルギーイオン ,  ビーム ,  浸食 ,  Si ,  自己組織化 ,  ナノ構造