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J-GLOBAL ID：201102280064878754   整理番号：11A1152344

〈今さら聞けない?基礎中の基礎〉薄膜作製のイロハ,真空蒸着法とスパッタリング法

Vacuum evaporation and sputtering: introduction to thin film preparation

著者 (1件)： 石井清 (宇都宮大 大学院)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 80  号： 7  ページ： 626-630  発行年： 2011年07月10日 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 原子や分子の堆積による薄膜作製技術は,電子デバイスや電子機器,光学部品などのさまざまな産業分野において不可欠な技術であるとともに,未知の物質の合成を可能にする大きな魅力を有している。その最も基本的な技術である真空蒸着法とスパッタリング法について,その原理と特徴を述べる。(著者抄録)

シソーラス用語： *真空蒸着 ,  *スパッタリング ,  *薄膜成長 ,  スパッタ蒸着 ,  平均自由行程 ,  基板温度

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (13件)：

• 金原粲. 薄膜. 1982
• 和佐清孝. 薄膜化技術. 2003
• 麻蒔立男. 薄膜作成の基礎. 1996
• 日本学術振興会薄膜第131委員会編. 薄膜ハンドブック. 2008
• 日本表面科学会編. 薄膜技術. 1999

タイトルに関連する用語 (4件)： 基礎 ,  薄膜作製 ,  真空蒸着法 ,  スパッタリング法