研究者
J-GLOBAL ID:200901078990427035
更新日: 2020年06月07日
石井 清
イシイ キヨシ | Ishii Kiyoshi
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所属機関・部署:
宇都宮大学 大学院工学研究科 電気電子システム工学専攻
宇都宮大学 大学院工学研究科 電気電子システム工学専攻 について
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職名:
教授
ホームページURL (1件):
http://www.ee.utsunomiya-u.ac.jp/~ishii/
研究分野 (1件):
電気電子材料工学
研究キーワード (8件):
酸化物薄膜
, スパッタリング
, 磁気記録材料
, ナノ磁性粒子
, ナノ粒子
, 薄膜工学
, Nanoparticles
, Thin film
競争的資金等の研究課題 (3件):
2012 - 2015 世界初の中間酸化膜による新型NDフィルター及び
2012 - 2014 高機能な応用を目指した新規形状な純鉄微粒子の作製と評価
1985 - Preparation and application of thin films on magnetic materials and various kinds of oxides, and magnetic nanaoparticles. Development of gas flow sputtering technique and low-energy cluster deposition.
論文 (3件):
Hiroshi Sakuma, Shinichi Sakamoto, Akimasa Naoi, Yusuke Saito, Kiyoshi Ishii. Growth of Fe cubical particles on substrates during gas flow sputtering. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2012. 30. 6. 061604/1-061604/6
Hiroshi Sakuma, Shinichi Sakamoto, Akimasa Naoi, Yusuke Saito, Kiyoshi Ishii. Growth of Fe cubical particles on substrates during gas flow sputtering. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2012. 30. 6. 061604/1-061604/6
石井 清. 薄膜作製のイロハ,真空蒸着法とスパッタリング法. 応用物理. 2011. 80. 7. 626-630
MISC (1件):
Hikaru Aoshima, Hiroshi Sakuma, Myoshi Ishii. Preparation and characterization of Fe-N nanoparticles by gas flow sputtering. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2008. 47. 1. 780-783
特許 (1件):
磁性微粒子,その製造方法及びその製造装置並びに腫瘍細胞破壊用磁性微粒子,細胞破壊方法,細胞破壊装置及び治療装置
書籍 (1件):
薄膜ハンドブック(第2版)
オーム社 2008
学歴 (4件):
1975 - 1980 東京工業大学 理工学研究科博士課程 電気工学専攻
- 1980 東京工業大学
1971 - 1975 東京工業大学 工学部 電子工学科
- 1975 東京工業大学
学位 (1件):
工学博士 (東京工業大学)
委員歴 (3件):
2008/07 - 2013/06 栃木県北東部産業交流会 会長
日本磁気学会 評議員
電子情報通信学会 電子部品・材料研究専門委員会 委員長
所属学会 (4件):
日本磁気学会
, 応用物理学会
, 電気学会
, 電子情報通信学会
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