研究者
J-GLOBAL ID:200901078990427035   更新日: 2020年06月07日

石井 清

イシイ キヨシ | Ishii Kiyoshi
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://www.ee.utsunomiya-u.ac.jp/~ishii/
研究分野 (1件): 電気電子材料工学
研究キーワード (8件): 酸化物薄膜 ,  スパッタリング ,  磁気記録材料 ,  ナノ磁性粒子 ,  ナノ粒子 ,  薄膜工学 ,  Nanoparticles ,  Thin film
競争的資金等の研究課題 (3件):
  • 2012 - 2015 世界初の中間酸化膜による新型NDフィルター及び
  • 2012 - 2014 高機能な応用を目指した新規形状な純鉄微粒子の作製と評価
  • 1985 - Preparation and application of thin films on magnetic materials and various kinds of oxides, and magnetic nanaoparticles. Development of gas flow sputtering technique and low-energy cluster deposition.
論文 (3件):
MISC (1件):
特許 (1件):
書籍 (1件):
  • 薄膜ハンドブック(第2版)
    オーム社 2008
学歴 (4件):
  • 1975 - 1980 東京工業大学 理工学研究科博士課程 電気工学専攻
  • - 1980 東京工業大学
  • 1971 - 1975 東京工業大学 工学部 電子工学科
  • - 1975 東京工業大学
学位 (1件):
  • 工学博士 (東京工業大学)
委員歴 (3件):
  • 2008/07 - 2013/06 栃木県北東部産業交流会 会長
  • 日本磁気学会 評議員
  • 電子情報通信学会 電子部品・材料研究専門委員会 委員長
所属学会 (4件):
日本磁気学会 ,  応用物理学会 ,  電気学会 ,  電子情報通信学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る