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J-GLOBAL ID：201102283388769990   整理番号：11A0136782

極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発

Photon-stimulated desorption spectrometer using extreme ultraviolet radiations

著者 (6件)： 加来昌典 (宮崎大) ,  甲藤正人 (宮崎大) ,  横谷篤至 (宮崎大) ,  窪寺昌一 (宮崎大) ,  佐々木亘 (NTP) ,  宮林延良 (電子科学)
資料名： 電気学会光・量子デバイス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： OQD-10  号： 46-54  ページ： 39-43  発行年： 2010年12月03日 
JST資料番号： Z0922A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： レーザー生成アルゴンプラズマからの真空紫外光を用いた光脱離質量分析装置の試作機の製作について報告した。試作機は,プラズマ生成用レーザー,光源チェンバー,トロイダル型回折格子を設置した分光チェンバー,四重極質量分析計等からなる。測定試料としてポリメチルメタクリレート及び市販のプラスチック製品の質量スペクトルを示し,試料の判別や不純物の混入の測定が可能で表面分析に有用なことを明らかにした。また,アルゴンガスを用いた光源では窓材を必要とするため,レーザープラズマ光源の波長域を極端紫外域まで拡大するためにAl,Cu,W単一原子及びCu-W合金をターゲットとして用いたプラズマ光源の発光特性,プラズマ密度分布の測定等を調べた結果も報告した

シソーラス用語： *極端紫外線 ,  *光脱離 ,  *質量分析 ,  *表面分析 ,  レーザプラズマ ,  発光スペクトル ,  質量スペクトル ,  ポリメタクリル酸メチル ,  プラズマ密度

分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  光化学一般  (CB08010U)

引用文献 (7件)：

• 竹添法隆, 横谷篤至, 黒澤宏, 佐々木亘, 五十嵐龍志, 松野博光, 吉田国雄, 佐々木孝友:「誘電体バリア放電Xeランプを用いたポリマーのフォトエッチング」, レーザー研究, 24, 1227-1233(1996).
• N. Takezoe, A. Yokotani, K. Kurosawa, W. Sasaki, T. Igarashi and H. Matsuno,: “SiO₂ thin film preparation using dielectric barrier discharge-driven excimer lamps”, Appl. Surf. Sci, 138-139, 340-343(1999).
• 本山理一, 黒澤宏, 横谷篤至:「VUV-CVDで生成したシリカ膜の電気特性」, 電子情報通信学会論文誌C J86-C, 913-919(2003).
• J. Miyano, A. Yokotani, K. Kurosawa,: “Characterization of SiO2 Films Deposited by VUV-CVD Using Organic Siloxane Gases”, IEEJ Trans. EIS, 123-C, 858-863(2003).
• K. lbshikawa, A. Yokotani, K. Kurosawa,: “Amorphous Silicon Film Deposition from Sala by Chemical Vapor Deposition with Argon Excimer Lamp”, Jpn. J. Appl. Phys., 44 7785-7788(2005).

タイトルに関連する用語 (4件)： 極端紫外光源 ,  光脱離 ,  質量分析装置 ,  開発