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J-GLOBAL ID：201102284827665612   整理番号：11A0806115

光架橋ポリ(1,2-ブタジエン)ハニカム膜ベースのパターン形成された異方性多孔質膜の製造

Fabrication of patterned and anisotropic porous films based on photo-cross-linking of poly(1,2-butadiene) honeycomb films

著者 (6件)： NAKAMICHI Yuki (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HIRAI Yuji (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YABU Hiroshi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (Tohoku Univ., JPN) ,  SHIMOMURA Masatsugu (JST-CREST, JPN)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 21  号： 11  ページ： 3884-3889  発行年： 2011年03月21日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 疎水性化合物と界面活性剤を塗布した表面は水の蒸発に従って表面張力で最密充填した水滴の格子が覆う。水がすべて蒸発するとハニカム構造が得られ,さらに架橋処理やフォトリソグラフィと表面層の剥離等の処理によりピラー支持構造などの応用上魅力的な多様な形態が可能となる。湿式環境下でのポリ(1,2-ブタジエン)の紫外線光架橋により高度に撥水性の膜を得た。ハニカム膜及び針山状の膜のパターン形成をフォトマスクで行った。延伸により異方性膜を得た。

シソーラス用語： *ポリブタジエン ,  *光架橋 ,  *ハニカム構造 ,  *パターン形成 ,  フォトマスク ,  疎水性 ,  界面活性剤 ,  水滴 ,  蒸発 ,  異方性 ,  紫外線照射 ,  *高分子膜 ,  最密充填 ,  *多孔質膜 ,  撥水性 ,  マスク

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光架橋 ,  ブタジエン ,  パターン形成 ,  異方性 ,  多孔質膜